La capacità di ridurre le dimensioni della caratteristica dei transistor basati sul silicio ha permesso l'industria dei semiconduttori migliorare le prestazioni, aumentare la velocità e ridurre il prezzo di circuiti integrati per gli ultimi 55 anni. Negli anni sessanta, Gordon Moore predisse che la densità di transistor per un circuito integrato sarebbe doppio ogni 18 mesi (legge di Moore). , L'industria dei semiconduttori ha finora in grado di seguire la legge di Moore potenziando gli attributi di risoluzione degli strumenti di fotolitografia. Uno strumento fotolitografia è un sistema ottico che proietta l'immagine di una maschera (che rappresenta un livello di un circuito integrato) su un wafer che è stato rivestito con un materiale fotosensibile (resistere). Dopo l'esposizione, fotoresist è stato sviluppato per rivelare un modello che viene trasferito alla superficie del wafer attraverso tecniche di incisione. Semiconductor analisti hanno teorizzato che entro il 2010 strumenti fotolitografia con sorgenti luminose 157-nm si avvicineranno il loro limite di risoluzione teorica (120 nm).